製品情報 | 材料

エキシマユニット

フラットタイプ(Semiconductor)

用途:
●ウエハ洗浄        
●マスク洗浄     
●レジスト改質    
●露光光源
●コータ前処理
●アッシング

フラットタイプ (FPD)

用途:
●ガラス基板洗浄
●ポリマ表面改質
●コーティング前処理
●張り合わせ前処理
●除電

チューブタイプ

用途:
●ガラス基板洗浄
●ポリマ表面改質
●コーティング前処理
●張り合わせ前処理
●除電

Xenon Unit

ランプ

キセノンフラッシュランプは、コンデンサに蓄積されたエネルギーを瞬間的に印加、放電することで大光量のパルス光を発生させることができます。瞬時に大光量が得られるとともに、高速繰り返し発光が可能です。また、紫外から赤外への連続したスペクトルをもち、人工的に作りだす光としては最も太陽光に近いスペクトルを特長としています。また、使用するガラス材によって、あるいは光学フィルタを装着することで出力スペクトルを変化させることができます。

用途 :
●可視光は、写真・ビデオ撮影や高度閃光警告灯などに使用されています。
●赤外線では、赤外線カメラ用光源や加熱用パルス熱源として使用されています。
●紫外線は、医療用・分析機器用光源として、また、蛍光塗料用ブラックライトなどとして使用されています。

ストロボスコープ

ストロボスコープとは、普通、規則正しい間隔で強くシャープな光を点滅させる装置のことを言います。
高速で回転するもの(たとえばパソコンに組み込まれたファン)などにストロボスコープの光をあてると、動いているはずのファンが止まって見えます。

用途 :
●大学や研究機関においては調査・研究用
●カメラ・ソフトウェアと組み合わせたAOI(自動光学検査装置)システムの光源
●物性測定装置や赤外線非破壊検査装置の加熱用熱源
●半導体シリコンウェハーのアニール用光源
●太陽電池などのI-V特性を測定するソーラーシミュレータ
●プリンテッド・エレクトロニクスにおける金属ナノインクの焼成・焼結用熱源

マイティストロボ

マイティストロボは、片手で操作できる900g(バッテリー含む)の軽量ボディに、ストロボスコープに必要なすべての機能を備えています。15Wの高輝度・大光量により、モータや回転機器の回転数計測、高速回転体/運動体の状態観察・写真撮影をこれ1台でカバーします。

用途 :
●各種モーターの回転速度計測
●生産現場などの各種回転機器の回転速度計測と動作チェック
●高速回転・高速運動の状態目視観察
●印刷物の色や色ズレ・汚れのチェック、タイミングマークやトンボの位置ズレなどの検査
●紡績機械のスピンドル回転数測定や糸のバルーンの観察、織機のタイミング調整など
●製鉄ラインでの通板目視検査用光源
●研究開発部門における高速現象解析・撮影用光源
●教育用途 など

流水殺菌モジュール

流水殺菌モジュール

※小形化と殺菌性能を両立する独自設計
※光源寿命の長寿命によるメンテナンスコスト削減
※高い耐水圧構造(最大1.0MPa)
※オンデマンド運転による効率運転(低コスト)の実現
※薬品不要・水銀フリー

用途:「菌」による歩留まり問題を解決し、菌による人件費や設備消耗品のコストを削減します。

応用業界:半導体、FPD、オプトエレクトロニクス、PCBなどの関連ウェットプロセス装置で使用できます。

オゾン発生装置

オゾン発生装置

無声放電でオゾンを発生させ、オゾン発生装置、オゾン水製造装置を製造し、水処理、表面改質、半導体などの用途にご使用頂いております。
クリーン度、濃度安定性を求められる半導体製造工程において、ロキテクノのクリーンなオゾン ガス、オゾン 水を供給出来るオゾン発生装置、オゾン水製造装置はドライ、ウェットステーションに広くご使用頂いております 。
SFMI、CE規格、RoHS指令に対しても対応可能です。

用途 :
半導体洗浄、酸化、漂白、殺菌、脱臭、脱色、有機物の分解など。

紫外線殺菌器

紫外線殺菌器

裝置型式:eVIO 222
光 源:Excimer lamp (QEK-100-222)
波 長:222nm
水 銀:不使用
本体寸法:260(W)*121(D)*105(H)mm
發光area:100*30mm
照射強度 :4mw/cm2
機 能:人感センサー搭載
Option :ACアダプタ (AC100~240V)