平面型(圓形)

用途：
●晶圓清潔處理　　　　　　 　　　　
●光罩清潔處理
●光阻改質處理　　　　　　
●曝光光源
●塗佈前處理
●刻蝕處理

平面型(方形)

用途：
●玻璃基板清潔處理
●聚合物表面改質處理
●塗佈前處理
●黏合前處理
●除靜電

燈管型

用途：
●玻璃基板清潔處理
●聚合物表面改質處理
●塗佈前處理
●黏合前處理
●除靜電

燈泡

氙氣閃光燈泡所產生的高強度脈衝是由儲存在電空器中的能量瞬間放電產生，在放電同時高速反覆以某種頻率閃光，產生的光線近乎接近自然光，因此不會對物體表面產生任何操作或破壞。

用途 :
●可視光，適用於攝影和影像錄製，也可用於航空警示燈
●紅外線，適用於攝影機的光源和熱源
●紫外線，適用於醫學和分析設備

頻閃儀

"頻閃儀是一種可發出高短暫強度並且有規律的密集閃光儀器"當頻閃儀對著高速旋轉的目標物體以相同頻率發出閃光時，即可使旋轉的物體同步靜止，使肉眼可見。

用途 :
●適用於大學和實驗室的學習和研究
●適用於光學檢測提供高速光源
●適用於物體的熱物理特性測試和紅外無損檢測設備
●適用於退火矽片
●適用於測試蓄電池的電壓和電流
●適用於印刷電路板領域的納米技術領域

攜帶式頻閃儀

攜帶式頻閃儀具有所有頻閃儀基本的功能，重量僅有900g，單手即可輕鬆操作。高亮度，高密度亮光 15W輸出，能非常精準的檢查電機和快速旋轉的物體。

用途 :
●適用於電機速度測試
●適用於快速旋轉體檢查
●適用於快速旋轉體且快速運動之物體檢查
●適用於顏色偏差、瑕疵、失調,和其他印刷材料缺陷檢查
●在紡織領域裡，適用於檢查主軸轉速，紗球檢查，紡織機定時調整
●適用於軋鋼表面檢測
●適用於高速運行物體領域研究
●適用於大學，研究室等

流水殺菌模組

※小型化→節省maintain區域的空間
※長壽命(35,000h)→降低Running Cost
※高耐水壓構造 (最大1.0MPa)
※可隨時運作實現有效作業
※不用藥品、水銀

用途：解決“菌”帶來的良率問題，減少因細菌問題衍生的人力與設備耗材成本。

應用業界：半導體、FPD、光電、PCB等相關濕製程設備。

臭氧生產設備

以無聲放電產生臭氧，專業之臭氧產生設備、臭氧水製造設備，適用於水處理、
表面改質、半導體等相關領域。
在清潔度和濃度穩定性要求較高規的半導體製造過程中，提供潔淨的臭氧氣體和臭氧水，並可廣泛應用在乾濕製程。 .
可對應 SFMI、CE 標準和 RoHS限制範圍 。

應用 :
適用於半導体洗淨、酸化、殺菌、脫臭、脫色、漂白、有機物分解等。

222滅菌模組

裝置型號：eVIO 222
光 源：Excimer lamp (QEK-100-222)
波 長：222nm
水 銀：不使用
本體尺寸：260(W)*121(D)*105(H)mm
發光area：100*30mm
照射強度：4mw/cm2
機 能：人感sensor搭載
Option ：AC變壓器 (AC100~240V)