產品訊息 | 等离子感测片
O₂/Ar洗净用
O₂洗净用适用于O₂、N₂、Air、CF₄、H₂、NH₃等自由基性等离子的感测片。
Ar洗净用能有效率的检测因O₂洗净用感测片难以检测之离子性Ar等离子。
用途:适用于封装与后段工程。
耐温:100℃
感度:O₂洗净用:3种
Ar洗净用:4种
耐热型
产品具柔软性及黏着性,可自由贴附于基板表面或设备内部。
用途:适用于高温制程。
耐温:200℃
感度:2种
大气等离子用
可针对大气等离子的自由基种类进行检测均匀性。
用途:适用于印刷电路板制造、FPD制造、膜加工等大面积的大气等离子处理、UV洗净、UV臭氧洗净等。
耐温:100℃
感度:2种
Wafer型
与Wafer相同形状之感测片,故以一般生产流程手送方式即可放置,并可简单测出面内等离子分布。
※陶瓷型-于Wafer上仅使用无机材料,即使是高温制程温制程也可安心使用。
※无金属型-仅使用有机材料,尽可能排除金属不纯物。
用途:因采无尘设计,适用于LED与MEMS等工程。
耐温:
※陶瓷型:400℃
※无金属型:250℃
感度:1种