フォトレジストが塗布された基板をマスクに重ね合わせ、パターンを焼付けする露光装置で、多層露光におけるオートアライメントができるようにスコープとX・Y・θステージ機構を備え、また基板の供給・アライメント・露光・排出を自動で行います。

主な特長
•独自の平行出し機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に設定。
•独自の高速画像処理技術による高精度なアライメントを実現。
•プリアライメントを画像処理技術により薄型基板や反り基板、水晶など割れやすいウェハにも対応。(オプション)
•独自のコンタクト圧精密制御機構により、マスクにウェハを高精度にコンタクト可能。
•ウェハの裏面真空吸着方式により、高速・高精度で安定した自動搬送を実現。