無声放電でオゾンを発生させ、オゾン発生装置、オゾン水製造装置を製造し、水処理、表面改質、半導体などの用途にご使用頂いております。
クリーン度、濃度安定性を求められる半導体製造工程において、ロキテクノのクリーンなオゾン ガス、オゾン 水を供給出来るオゾン発生装置、オゾン水製造装置はドライ、ウェットステーションに広くご使用頂いております 。
SFMI、CE規格、RoHS指令に対しても対応可能です。

用途 :
半導体洗浄、酸化、漂白、殺菌、脱臭、脱色、有機物の分解など。