運用試片,輕鬆的了解現行使用電漿的均勻性、能量等相關資訊。不需等到產品出狀況才去找原因,可作為日常生產監控的新利器。
說明 : O₂洗淨用適用於O₂、N₂、Air、CF₄、H₂、NH₃等自由基性電漿的感測片。Ar洗淨用能有效率的檢測因O₂洗淨用感測片難以檢測之離子性Ar電漿。若為自由基性電漿或與自由基元混合之氣體時,應使用O₂洗淨用感測片。
用途 : O₂洗淨用適用於UV洗淨、UV臭氧洗淨。
感度 : 各3種
說明 : 色材採用無機材料,基材則為PI材質,具背膠同時也能耐高溫(200℃)
用途 :
感度 : 2種
說明 : 可針對大氣電漿的自由基種類進行檢測。
用途 : 適用於印刷電路板製造、FPD製造、膜加工等大面積的大氣(常壓)電漿處理、UV洗淨、UV臭氧洗淨等。
說明 : 為與Wafer相同形狀之感測片,故以一般生產流程手送方式即可放置,並可簡單測出面內電漿分布採用不含有機材料的陶瓷膜,耐熱性提高至400℃,即使是高溫製程溫製程也可安心使用Wafer基板有矽與藍寶石兩種可供選擇。
用途 : 因採無塵設計,適用於LED與MEMS等工程。
感度 : 1種