產品訊息 | 電漿感測片
O₂ /Ar洗淨用
O₂洗淨用適用於O₂、N₂、Air、CF₄、H₂、NH₃等自由基性電漿的感測片。
Ar洗淨用能有效率的檢測因O₂洗淨用感測片難以檢測之離子性Ar電漿。
用途 :適用於封裝與後段工程。
耐溫: 100℃
感度 : O₂洗淨用:3種
Ar洗淨用:4種
耐熱型
產品具柔軟性及黏著性,可自由貼附於基板表面或設備內部。
用途 :適用於高溫製程。
耐溫: 200℃
感度 : 2種
大氣電漿用
可針對大氣電漿的自由基種類進行檢測均勻性。
用途 :適用於印刷電路板製造、FPD製造、膜加工等大面積的大氣電漿處理、UV洗淨、UV臭氧洗淨等。
耐溫:100℃
感度 : 2種
Wafer型
與Wafer相同形狀之感測片,故以一般生產流程手送方式即可放置,並可簡單測出面內電漿分布。
※陶瓷型-於Wafer上僅使用無機材料,即使是高溫製程溫製程也可安心使用。
※無金屬型-僅使用有機材料,盡可能排除金屬不純物。
用途 :因採無塵設計,適用於LED與MEMS等工程。
耐溫:
※陶瓷型:400℃
※無金屬型:250℃
感度 : 1種